主な製品

循環流体温度コントロール Control of temperature of circulation fluid

アプリケーションに応じた液体・気体の最適な温度湿度ソリューションをご提案いたします。

特徴

  • ヒーターレス制御システムの開発により小型・省エネ・高精度を実現
  • シールレスマグネットポンプを搭載することにより、高信頼性を実現
  • 自社開発マルチファンクションコントローラ搭載により各種カスタマイズ対応
  • 豊富な循環流体毎に最適装備を搭載したチラーのご提案
    (フッ素系流体、エチレングリコール・プロピレングリコール・純水等々)
  • Rohs指令・SEMI規格はもちろんUL・CE・Sマーク等の対応
  • 輸出先国ごとに第三者認証機関のレギュレーションも対応

過去の生産例

【写真】EMCテスト風景

EMCテスト風景

【写真】温度制御装置

温度制御装置

【写真】温度制御装置

温度制御装置(高温・低温 2チャンネル)

MOCVD成膜材料ケミカルの蒸気圧コントロールを行い、より安定した成膜をサポートします。

特徴

  • 電子冷熱方式で-20~70℃の温度コントロール
  • 独自の流体循環攪拌方式により、温度分布で±0.4の高精度を実現
  • 自社開発のマルチファンクションコントローラを搭載
  • 流体循環タンクとコントローラがセパレートされ小さなフットプリントを実現

過去の生産例

【写真】ペルチェ式温度コントロールユニット

ペルチェ式温度コントロールユニット

6025フォトマスク・200mm以下各種ウェハーのプリベーク・ポストベークに最適

特徴

  • ベーク温度MAX 150℃までプレート設定可能
  • チラーによる水冷式クールプレート搭載
  • ベーク温度各温度帯で±1℃以内の精度
  • 自動開閉式プレートカバーを搭載
  • 各種カスタマイズに対応・研究開発用途に最適です。
  • マスクハンドリング専用治具あり (オプション)

過去の生産例

【写真】温度コントロールユニット

温度コントロールユニット 及び ウェハ・マスク用プリベーク&ポストベーク装置

【写真】半導体製造装置用チラー

半導体製造装置用チラー

【グラフ】チラー温度イメージ

チラー温度イメージグラフ