循環流体温度コントロール Control of temperature of circulation fluid
アプリケーションに応じた液体・気体の最適な温度湿度ソリューションをご提案いたします。
特徴
- ヒーターレス制御システムの開発により小型・省エネ・高精度を実現
- シールレスマグネットポンプを搭載することにより、高信頼性を実現
- 自社開発マルチファンクションコントローラ搭載により各種カスタマイズ対応
- 豊富な循環流体毎に最適装備を搭載したチラーのご提案
（フッ素系流体、エチレングリコール・プロピレングリコール・純水等々） - Rohs指令・SEMI規格はもちろんUL・CE・Ｓマーク等の対応
- 輸出先国ごとに第三者認証機関のレギュレーションも対応
過去の生産例
EMCテスト風景
温度制御装置
温度制御装置（高温・低温 2チャンネル）
MOCVD成膜材料ケミカルの蒸気圧コントロールを行い、より安定した成膜をサポートします。
特徴
- 電子冷熱方式で-20～70℃の温度コントロール
- 独自の流体循環攪拌方式により、温度分布で±0.4の高精度を実現
- 自社開発のマルチファンクションコントローラを搭載
- 流体循環タンクとコントローラがセパレートされ小さなフットプリントを実現
過去の生産例
ペルチェ式温度コントロールユニット
6025フォトマスク・200mm以下各種ウェハーのプリベーク・ポストベークに最適
特徴
- ベーク温度MAX 150℃までプレート設定可能
- チラーによる水冷式クールプレート搭載
- ベーク温度各温度帯で±1℃以内の精度
- 自動開閉式プレートカバーを搭載
- 各種カスタマイズに対応・研究開発用途に最適です。
- マスクハンドリング専用治具あり （オプション）
過去の生産例
温度コントロールユニット 及び ウェハ・マスク用プリベーク＆ポストベーク装置
半導体製造装置用チラー
チラー温度イメージグラフ